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    處理鍍鉻液中雜質離子的裝置.pdf

    放大字體??縮小字體 發布日期:2008-07-05??瀏覽次數:2277 ??關注:加關注
    核心提示:處理鍍鉻液中雜質離子的裝置.pdf

    【專利號(申請號)】200720040345.5

    【公開(公告)號】CN201071402

    【申請人(專利權)】徐建中

    【申請日期】2007-7-25 0:00:00

    【公開(公告)日】2008-6-11 0:00:00

    本實用新型提供一種處理鍍鉻液中雜質離子的裝置,包括電解槽,所述電解槽設置有進液口和出液口,所述出液口與鍍鉻設備的電鍍槽連通,所述進液口連通泵的出液管,所述泵的進液管與上述電鍍槽連通,所述電解槽中放置有陶瓷隔膜電解器,所述陶瓷隔膜電解器包括陰極板、陽極板和電解桶。本實用新型提供的處理鍍鉻液中雜質離子的裝置,可以在電鍍鉻生產不停止的情況下,對鍍鉻液中雜質離子進行處理,從而實現不影響電鍍鉻生產的情況下對鍍鉻液中的雜質離子進行處理。

     

    處理鍍鉻液中雜質離子的裝置.pdf
     

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    關鍵詞: 鍍鉻 雜質離子 裝置
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